随着工业与科技的发展，对优良的工艺性能材料有着越来越高的要求。Si3N4是一种新型的高温结构陶瓷材料，具有优良的化学性能，兼有抗热震性好，高温蠕变小，对多种有色金属融体不润湿，硬度高，具有自润滑性，已广泛应用到切削刀具、冶金、航空、化工等行业之中。
    Si3N4是以共价键应以的有机物，键力量强大，键的方法性强，设备构造中疵点的行成和转至所需的激光能量大，即疵点吸附因子低（坏处），其特性很难辊道窑，里面共价键Si-N基本成分为70 %，阴离子键为30 %，同时是由于Si3N4本就设备构造跟不上低密度，关键在于为增长功能所需含有一点氧化反应物辊道窑隔离剂，根据色谱仪辊道窑使其低密度化。

    Si3N4含有两种晶型，一种为α-Si3N4，针状结晶体，呈白色或灰白色，另一种为β-Si3N4，颜色较深，呈致密的颗粒状多面体或短棱柱体。两者均为六方晶系，都是以[SiN4]4-四面体共用顶角构成的三维空间网络。在高温状态下，β相在热力学上更稳定，因此α相会发生相变，转为β相。从而高α相含量Si3N4粉烧结时可得到细晶、长柱状β-Si3N4晶粒，提高材料的断裂韧性。但陶瓷烧结时必须控制颗粒的异常生长，使得气孔、裂纹、位错缺陷出现，成为材料的断裂源。
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